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特種氣體
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四氟甲烷

  • 時   間 2016-3-19 15:19:51
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主要用途


1.用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體,用于低溫制冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。2.是目前微電子工業中用量很大的等離子蝕刻氣體,四氟甲烷高純氣及四氟甲烷高純氣、高純氧的混合氣,可廣泛應用于矽、二氧化矽、氮化矽、磷矽玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池生産、激光技術、低溫制冷、洩漏檢驗、印刷電路生産中的去污劑等方面也大量使用。3.用作低溫制冷劑及集成電路的等離子幹法蝕刻技術。

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