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特種氣體
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三氟化氮

  • 時   間 2016-3-19 15:22:50
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合成方法

在熔融氟铵酸存在下,采用氨直接氟化工藝,其反應式為:

反應産物經過除霧器、淋洗器、分子篩吸附器,以及真空蒸餾,可分别除去各種雜質,最後用低溫法收集得到NF3。


主要用途

1.NF3是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體,對矽和氮化矽的蝕刻,采用NF3和CF4+O2的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對表面無污染。氫與NF3反應,在瞬間伴随放出大量的熱,這就是NF3在高能化學激光器方面大量應用的原理。在高溫下,NF3與有機化合物反應常伴有爆炸性,操作時應十分謹慎。2.用作高能燃料。

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